随着手机等电子消费品的更新速度不断加快与激烈竞争，手机镜头的设计指标也越来越高。一款良好的成像系统应具备高成像质量、镜头表面可加工、装配误差对成像质量影响小等特征。借助ANSYS ZEMAX实现从光学成像系统设计端到应用分析端的整套流程设计，本次培训内容重在分析影响成像质量的因素以及序列模式下的公差分析，帮助各位设计者对光学系统进行约束，实现最佳设计。

通过本次课程，光学设计者将了解像差概念，通过成像质量工具例如点列图、MTF、场曲/畸变、赛德尔图等工具评估系统成像质量。在公差分析环节将了解公差类型与如何设置公差进行系统分析。最后将结合一个案例进行对应讲解，帮助设计者直观了解成像系统在ZEMAX中的成像质量与公差分析。